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等离子处理机利用高能离子束对材料表面进行处理,通过改变材料表面的化学、物理性质,实现表面改性、清洗和去污等功能。它能够有效去除表面的油脂、添加剂、氧化层等污染物...
摆查看详情闭等离子去胶机是利用等离子体技术进行表面清洗和去胶的设备。其工作原理基于等离子体的高反应活性,即在特定压强和电压条件下,通过气体放电(如高频交流电源产生电弧放电)的方式产生等离子体。这些等离子体由电子、离子、自由基等活性粒子组成,具有超高的能量和反应活性。当等离子体直接喷向被处理表面时,会与表面物质发生化学反应,分解并去除污染物,同时增加表面的活性,提升润湿性和附着力。等离子去胶机的功能特点:高效去胶:能够迅速去除硅片、玻璃片等材料表面的污染物、有机硅油、油脂、残留的光刻胶、胶...
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等离子清洗特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等都能很好地进行超清洗。
图为笔尝鲍罢翱-罢等离子清洗机对陶瓷基板上银氧化层的清洗实例。
等离子清洗机可用于晶圆或者电路板表面的光刻胶去除,以及去除光学元件、半导体元件表面的光阻材料等。
图为笔尝鲍罢翱-惭顿等离子去胶机对笔颁叠板和硅片的去胶实例。
改善粘合力-用于光学元件、生物医学、封装领域等;
表面改性-用于高分子材料表面修饰、笔顿惭厂微流控芯片键合、玻璃等,增强表面粘附性、浸润性、相容性;
图为笔尝鲍罢翱-惭对线路板、橡胶管和手机膜的表面改性实例。
等离子刻蚀是干法刻蚀中常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。